Inventech Menu
Dutch
figuur21appcases_abrasives_sio2-738x1024.jpg

Voorbeeld: silicadeeltjes

Commerciële silicadeeltjes zijn breed beschikbaar op de markt. In de figuren worden de EOS CLOUDS van een mix van monodisperse silicabolletjes van 0,3 µm en 2,0 µm getoond. Er verschijnen twee afzonderlijke ‘clouds’ die onafhankelijk van elkaar kunnen worden geanalyseerd. De gemeten numerieke concentraties zijn 1,4×10^6 deeltjes/ml voor het monster van 0,3 µm en 1,3×10^5 deeltjes/ml voor het monster van 2 µm.

figuur23appcases_abrasives_ceox-738x1024.jpg

Voorbeeld: CeO2-slurry

Ceriumoxide (CeO2), ook wel ceria genoemd, wordt veel gebruikt als schuurmiddel voor chemisch-mechanisch polijsten (CMP) van siliciumoppervlakken. Enkele microliters van een CeO2-slurry worden in water gedispergeerd. De SPES-gegevens worden in de figuur getoond. De EOS-software bepaalt een brekingsindex van 2,0 ± 0,4, wat overeenkomt met de verwachte waarde.

figuur25appcases_abrasives_diamond-738x1024.jpg

Voorbeeld: diamantpasta

Diamant, zowel natuurlijk als synthetisch, wordt gebruikt in hoogwaardige frezen, kettingzagen, boormachines, en polijst- en lepmachines. Het belangrijkste voordeel ten opzichte van andere schuurmiddelen is hun superieure (snij)prestaties en duurzaamheid. De EOS-software bepaalt een brekingsindex van 2,4 ± 0,4, wat overeenkomt met de verwachte waarde.

Download hier de brochure van de Classizer™ ONE van EOS.
dsc_1158_00025_reduced.jpg

Meer informatie over de CLASSIZER™ ONE van EOs voor deeltjeskarakterisering van schuurmiddelen?

Neem contact op met de specialisten in deeltjeskarakterisering van Inventech.
Neem gerust contact met ons op voor meer informatie

Deeltjeskarakterisering van schuurmiddelen

Inventech is dé specialist in hoogwaardige deeltjesanalyzers; ook voor schuurmiddelen.